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產品名稱:
德國SENTECH等離子刻蝕機
產品時間:
2025-02-05
產品型號:
ICP-RIE SI 500
產品報價:
5000
產品特點:
赫爾納供應德國SENTECH等離子刻蝕機 ICP-RIE SI 500,德國總部直接采購,近30年進口工業品經驗,原裝產品,支持選型,為您提供一對一好的解決方案:貨期穩定,快速報價,價格優,在中國設有8大辦事處提供相關售后服務。
  ICP-RIE SI 500德國SENTECH等離子刻蝕機的詳細資料:

赫爾納供應德國SENTECH等離子刻蝕機 ICP-RIE SI 500


赫爾納供應德國SENTECH 等離子刻蝕機 ICP-RIE SI 500,德國總部直接采購,近30年進口工業品經驗,原裝產品,支持選型,為您提供一對一好的解決方案:貨期穩定,快速報價,價格優,在中國設有8大辦事處提供相關售后服務。

公司簡介:SENTECH是一家專注于等離子蝕刻設備研發和生產的公司,其產品廣泛應用于半導體、微電子、材料科學等領域。SENTECH等離子蝕刻機以其高精度、高穩定性和多功能性而著稱。


德國SENTECH等離子刻蝕機 ICP-RIE SI 500產品類別:等離子蝕刻

ICPECVD 系統

原子層沉積系統

用于等離子蝕刻和沉積的集群配置

質量控制計量

橢圓偏振光譜儀

光譜反射計

激光橢偏儀

原位計量/端點檢測


主要型號:SI 500 ICP-RIE

ICP-RIE SI 500

Etchlab 200 RIE


德國SENTECH 等離子刻蝕機 ICP-RIE SI 500產品介紹: SI 500 ICP-RIE 等離子刻蝕機

型號: ICP-RIE SI 500

等離子源: PTSA(三螺旋平行板天線)等離子源

襯底溫度控制: 動態溫度控制的襯底電極,溫度范圍從-150°C至+400°C

真空系統: 全自動控制的真空系統

控制軟件: 使用遠程現場總線技術的SENTECH控制軟件

用戶界面: 用戶友好的通用接口

靈活性和模塊化: 設計特點為靈活性和模塊化

適用材料: 可用于加工各種材料,包括三五族化合物半導體(GaAs, InP, GaN, InSb)、介質、石英、玻璃、硅和硅化合物(SiC, SiGe)、金屬等

特點:

高離子密度和低離子能量的均勻等離子體

高耦合效率和非常好的起輝性能

單晶片預真空室保證穩定的工藝條件

切換工藝非常容易


優勢特點:高密度等離子體: 產生高離子密度和低離子能量分布均勻的等離子體

納米結構損傷小: 由于離子能量分布較低,可以實現低損傷蝕刻和納米結構

簡單高速腐蝕: 高長徑比MEMS用硅的高速率蝕刻

室溫工藝或光滑側壁的低溫工藝: 可選擇不同的工藝條件

靈活性和模塊化設計: 可根據需求進行升級和擴展



產品相關關鍵字: SENTECH等離子刻蝕機 SENTECH進口等離子刻蝕機 德國SENTECH SENTECH光譜反射計 SENTECH激光橢偏儀
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